Targedau Sputtering Titaniwm Gyda Phurdeb Uchel

Targedau sputtering titaniwm gyda phurdeb uchelyn ffynonellau sputtering sy'n ffurfio ffilmiau tenau swyddogaethol amrywiol ar swbstradau trwy sputtering magnetron, platio ïon aml-arc neu fathau eraill o systemau cotio o dan amodau proses priodol. Yn syml, y deunydd targed yw'r deunydd targed sy'n cael ei beledu gan ronynnau gwefru cyflym.

Fe'i defnyddir mewn arfau laser ynni uchel. Pan fydd laserau â dwysedd pŵer gwahanol, tonffurfiau allbwn gwahanol, a thonfeddi gwahanol yn rhyngweithio â gwahanol dargedau, byddant yn cynhyrchu gwahanol laddiadau ac iawndal. effaith. Er enghraifft: anweddiad magnetron sputtering cotio yw gwresogi araen anweddiad, ffilm alwminiwm ac ati. Trwy ddisodli gwahanol ddeunyddiau targed (fel alwminiwm, copr, dur di-staen, titaniwm, targedau nicel, ac ati), gellir cael gwahanol systemau ffilm (fel ffilmiau aloi superhard, gwrthsefyll traul, gwrth-cyrydu, ac ati).

Paramedrau

Nodweddion

1. pwysau ysgafn

2. cryfder penodol uchel

3. ymwrthedd cyrydiad

4. ymwrthedd tymheredd uchel ac isel

Ceisiadau

★Adeiladu llongau ★Platio Electrolytig ★Awyrofod ★Diwydiant Cemegol ★Offer Meddygol

Manylion

Wedi'i wneud o ddeunyddiau crai o ansawdd uchel, defnydd hirdymor sy'n gwrthsefyll traul ac yn gwrthsefyll cyrydiad

Dim craciau plicio ar yr wyneb, dim staeniau olew, wyneb ochr llyfn a glân

Mae manylebau cyflawn, torri mympwyol, yn cefnogi addasu ansafonol

Mae purdeb y deunydd targed yn cael effaith fawr ar berfformiad y ffilm. Mae purdeb yn un o'r dangosyddion perfformiad targed.

Purdeb

Purdeb y targed yw un o brif ddangosyddion perfformiad y targed oherwydd bod purdeb y targed yn effeithio'n fawr ar berfformiad y ffilm. Fodd bynnag, mewn cymwysiadau gwirioneddol, nid yw'r gofynion ar gyfer purdeb y deunydd targed yr un peth. Er enghraifft, gyda datblygiad cyflym y diwydiant microelectroneg Ehangwyd maint y wafer silicon o 6 ", 8" i 12 ", gostyngwyd lled y gwifrau o 0.5 um i 0. 25 um, 0.18 um, a 0.13 um. Yn flaenorol, y targed purdeb oedd 99.995 y cant .

Cynnwys amhuredd

Prif ffynhonnell y ffilm a adneuwyd yw ocsigen a lleithder y solidau targed a'r mandyllau. Mae gan dargedau ar gyfer cymwysiadau amrywiol ofynion gwahanol ar gyfer gwahanol lefelau amhuredd. Er enghraifft, mae gan dargedau aloion alwminiwm ac alwminiwm pur a ddefnyddir yn y diwydiant lled-ddargludyddion ofynion arbennig ar gyfer cynnwys metel alcali a chynnwys elfen ymbelydrol.

Dwysedd

Er mwyn lleihau mandyllau'r solidau targed a gwella perfformiad ffilmiau wedi'u sputtered, fel arfer mae angen i'r targedau fod yn fwy dwys. Mae'r dwysedd targed yn effeithio nid yn unig ar y gyfradd sputtering ond hefyd ar briodweddau trydanol ac optegol y ffilm. Po uchaf yw'r dwysedd targed, y gorau yw perfformiad y ffilm. Yn ogystal, pan fydd y dwysedd targed a dwyster yn cael eu codi, gall y targed wrthsefyll y straen thermol yn ystod sputtering. Mae dwysedd yn un o'r dangosyddion perfformiad targed.

Maint grawn a dosbarthiad maint

Fel arfer, y targed yw polycrystalline, a gall maint y gronynnau fod yn nhrefn micromedrau i filimedr. Yn achos yr un targed, mae cyfradd sputtering y targed graen mân yn gyflymach na chyfradd sputtering y targed grawn bras, tra bod dyddodiad sputter y targed maint gronynnau llai (dosbarthiad unffurf) â dosbarthiad trwch unffurf (gwisg) . Dosbarthiad.

Os oes gennych ddiddordeb yn ytargedau sputtering titaniwm gyda purdeb uchel, mae croeso i chi gysylltu â ni:

E-bost:zhangjixia@bjygti.com

Hafan:http://www.toptitech.com

Tagiau poblogaidd: targedau sputtering titaniwm gyda purdeb uchel, Tsieina, cyflenwyr, gweithgynhyrchwyr, addasu, defnydd, pricelist, ar werth, mewn stoc, sampl am ddim, deunydd mandyllog